Infrastruktura

» Mikroskopia elektronowa

Skaningowa Mikroskopia Elektronowa

Skaningowa Mikroskopia Elektronowa wykorzystuje dwa urządzenia. Kolumna elektronowa systemu Helios NanoLab Dual Beam jest wykorzystywana jako doskonały SEM, stosowany w szczególności dla obrazowania z wysoką rozdzielczością (lepszą od 1 nm) w trybie elektronów wtórnych. Mikroskop XL-30 Phillips jest wykorzystywany szczególnie w trybach katodoluminescencji, prądu indukowanego wiązką elektronów (Electron Beam Induced Current - EBIC) i XEDS, jak też w trybach elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych.

System zogniskowanej wiązki jonów (Focused Ion Beam) użyty do mikro- i nanoprocesów oraz Skaningowej Mikroskopii Jonowej

system do trawienia zogniskowaną wiązką jonów (Focused Ion Beam) wykorzystywany do wielu rodzajów procesów nanotechnologicznych: trawienia wszystkich materiałów, nakładania metali (Pt, W) i dielektryków, przyśpieszonego trawienia dielektryków i polimerów. Możliwe jest tworzenie zaprojektowanych wzorów na różnych materiałach bez użycia masek (tzw. direct writing). Często jest używany do preparatyki próbek dla TEM. Skaningowa Mikroskopia Jonowa umożliwia wysoki kontrast materiałowy przy obrazowaniu za pomocą jonów dla powierzchni i wytworzonych na FIB przekrojów próbek. Na wyposażeniu systemu FIB znajdują się też manipulatory Kleindiek do mikro/nanomanipulacji i lokalnych pomiarów elektrycznych.

Transmisyjna Mikroskopia Elektronowa (w tym HRTEM - wysokorozdzielcza mikroskopia TEM)

Transmisyjna mikroskopia elektronowa. Głównym urządzeniem jest mikroskop JEOL JEM-2100. Wśród stosowanych technik są: wysokorozdzielcza transmisyjna mikroskopia elektronowa (HRTEM), skaningowo- transmisyjna mikroskopia elektronowa (STEM), mikroanalizy składu chemicznego na podstawie dyspersji energii promieniowania rentgenowskiego (XEDS), obrazowanie przy użyciu elektronów rozproszonych pod dużymi kątami (HAADF), metoda Nano Beam Diffraction (NBD), oraz inne metody.

» wróć