Oferta

⇚ powrót

Pomiar właściwości materiałow i struktur półprzewodnikowych metodami optycznymi

Oferujemy wykorzystanie optycznych metod pomiarowych do kompleksowej charakteryzacji półprzewodników i ich powierzchni granicznych z izolatorami w przyrządach MIS. Pakiet stosowanych przez nas metod pozwala na ocenę jakości powierzchni, identyfikację naprężeń mechanicznych, określenie grubości i parametrów optycznych warstw oraz ich składu chemicznego.

Do charakteryzacji materiałów i struktur stosowane są cztery metody optyczne: elipsometria spektroskopowa, spektrofotometria, mikrospektroskopia Ramana oraz interferometria.

Przy pomocy elipsometrii spektroskopowej mierzone są charakterystyki spektralne kątów elipsometrycznych ψ(λ) i Δ(λ) w celu określenia m. in. grubości warstwy t (szczególnie dielektryka), charakterystyk spektralnych zespolonego współczynnika załamania N(λ) i zespolonej funkcji dielektrycznej ε(λ), gdzie N = n + ik aε = ε₁ + i ε₂.

Dodatkowo spektrofotometria pozwala na pomiary spektroskopowe transmisji i odbicia w nadfiolecie, świetle widzialnym i bliskiej podczerwieni (UV-VIS-NIR) zarówno w roztworze, jak i ciele stałym.

Spektroskopia Ramana polega na analizie rozkładu i przemieszczenia linii widma Ramana, skąd można wyznaczyć rozkłady naprężeń mechanicznych w badanych próbkach oraz zidentyfikować niektóre cząsteczki chemiczne występujące w poszczególnych warstwach struktury (np. wytrącenia węglowe na powierzchni granicznej SiC-SiO₂).

Badania interferometryczne, polegające na analizie rozkładu prążków interferencyjnych na powierzchniach różnych próbek, pozwalają m. in. na pomiar wysokości „stopni” (grubości warstw), ocenę płaskości i ewentualnego odkształcenia powierzchni próbki.

Dysponujemy laboratorium pomiarowym znajdującym się w klimatyzowanych pomieszczeniach z antyelektronstatyczną podłogą i specjalnie doprowadzonym uziemieniem, wyposażonym w zautomatyzowane i wysoko precyzyjne systemy pomiarowe: elipsometry spektroskopowe, spektrometr Ramana MonoVista i spektrofotometr na zakres UV-VIS-NIR.

WYNIK: Raport zawierający zmierzone zależności oraz obliczone parametry wraz z krótką charakterystyką próbek opracowany przez specjalistę.

WARUNKI TECHNICZNE (OGRANICZENIA): Ograniczeniem są rozmiary badanych próbek i możliwość umieszczenia ich w przyrządzie oraz rozmiar plamki w elipsometrze i spektrofotometrze. Warstwy metaliczne dla po- miarów elipsometrycznych nie powinny przekraczać 25 - 30 nm. W badaniach ramanowskich wzbudzenia dokonuje się za pomocą wiązki laserowej światłem widzialnym o długości fali 488 nm oraz w nadfiolecie z pomocą linii wzbudzającej 266 nm.

Nasza oferta obej­muje ana­lizy mate­ria­łów i przy­rzą­dów prze­pro­wa­dzone przy uży­ciu tech­nik TEM, SEM i ska­nin­go­wej mikro­sko­pii jono­wej oraz wyko­na­nie mikro- i nano­pro­ce­sów przy uży­ciu tech­niki FIB w celu mody­fi­ka­cji lub cha­rak­te­ry­za­cji mate­ria­łów i przy­rzą­dów.