Oferta

⇚ powrót

Czujniki siły, sensory, belki, piezorezystywne czujniki, mikro- i nanomanipulacja

Rodzina czujników siły opracowanych w ITE bazuje na idei piezorezystywnych belek krzemowych. Oferowane czujniki są miniaturowe oraz uniwersalne (wymagają jedynie prostego elektronicznego układu odczytowego).

Rodzina oferowanych czujników obejmuje kilka konfiguracji różniących się kształtem belki oraz jej grubością, dostosowaną do rozmiarów, kształtu oraz twardości badanych obiektów.

Do każdego z czujników dołączana jest szczegółowa specyfikacja zawierająca wszystkie parametry użytkowe. Oferowane sensory spełniają wszystkie wymagania niezbędne do mikro- i nanomanipulacji małymi obiektami.

Pobierz broszurę informacyjną (w języku angielskim).

Kontakt: Piotr Grabiec, Paweł Janus

Zakład Tech­no­lo­gii Mikro­sys­te­mów i Nano­struk­tur Krze­mo­wych ITE ofe­ruje moż­li­wość wytwa­rza­nia w pełni funk­cjo­nal­nych mikro­sys­te­mów opar­tych o tech­no­lo­gie CMOS/MEMS.

Zakład dys­po­nuje zesta­wem spe­cja­li­stycz­nych urzą­dzeń tech­no­lo­gicz­nych ulo­ko­wa­nych w pomiesz­cze­niach czy­stych klasy 4 – 6 (wg ISO 14644–1), za pomocą któ­rych mogą być reali­zo­wane bada­nia pod­sta­wowe, prze­my­słowe i prace roz­wo­jowe (TRL 1 – 8) nad wytwa­rza­niem mikro- i nano-przyrządów, aż do fazy pro­to­typu. Do dys­po­zy­cji zama­wia­ją­cych są m.in. urzą­dze­nia do wyko­ny­wa­nia pro­cesu foto­li­to­gra­fii (mask ali­gner, wafer step­per, Direct Wri­ting Laser sys­tem oraz EBL, spin coater, spray coater), piece do utle­nia­nia i dyfu­zji, reak­tory do osa­dza­nia (LPCVD, APCVD oraz PECVD), reak­tory do tra­wie­nia pla­zmo­wego, sta­no­wi­ska do tra­wie­nia mokrego, napy­larki metali, wiąz­kowy implan­ta­tor jonów, uni­kalny implan­ta­tor pla­zmowy oraz reak­tor do szyb­kiego wygrze­wa­nia (RTP), urzą­dze­nie do łącze­nia pły­tek (wafer bon­der), urzą­dze­nia do mikro­mon­tażu (wire bon­der, die bon­der) i her­me­ty­za­cji struk­tur w obu­do­wach. Urzą­dze­nia tech­no­lo­giczne dosto­so­wane są do obróbki pod­łoży krze­mo­wych o śred­nicy 100 i 150 mm.

Uzu­peł­nie­niem poten­cjału tech­no­lo­gicz­nego są urzą­dze­nia do cha­rak­te­ry­za­cji mikro­sys­te­mów MEMS w zakre­sie para­me­trów elek­trycz­nych (pro­bery, ana­li­za­tory widma, sondy czte­ro­ostrzowe) i mecha­nicz­nych (wibro­metr lase­rowy zin­te­gro­wany z pro­be­rem próż­nio­wym), a także do badań mate­ria­ło­wych w mikro­skali oraz ana­lizy topo­gra­fii powierzchni (sys­tem mikro­sko­pii cyfro­wej, inter­fe­ro­metr świa­tła bia­łego oraz mikro­skopy ostrzowe – nano­in­ten­der i mikro­skop sił ato­mo­wych).

Zakład ofe­ruje moż­li­wość podej­mo­wa­nia wspól­nych pro­jek­tów, opra­co­wa­nie i wyko­ny­wa­nie poje­dyn­czych pro­ce­sów tech­no­lo­gicz­nych, wytwa­rza­nie masek foto­li­to­gra­ficz­nych (włącz­nie z pro­jek­tem CAD), cię­cie pły­tek (krze­mo­wych, szkla­nych itp.), kom­pu­te­rowe mode­lo­wa­nie i symu­la­cje struk­tur MEMS, jak rów­nież opra­co­wa­nie i wytwa­rza­nie kom­plet­nych przy­rzą­dów dosto­so­wa­nych do spe­cy­ficz­nych potrzeb zama­wia­ją­cego m.in. róż­nego typu mikro­sys­te­mów i czuj­ni­ków (np. wyko­rzy­stu­ją­cych struk­tury rezo­nan­sowe z pie­zo­re­zy­sto­rami lub jono­czułe elek­trody i tran­zy­story polowe ISFET), foto­de­tek­to­rów, detek­to­rów pro­mie­nio­wa­nia joni­zu­ją­cego i THz, struk­tur MOS (np. tran­zy­story typu Fin­FET), czy też ela­stycz­nych elek­trod np. do zasto­so­wań medycz­nych. Oferta kie­ro­wana jest szcze­gól­nie do bada­czy i przed­się­bior­ców zain­te­re­so­wa­nych zagad­nie­niami pomia­ro­wymi, opra­co­wy­wa­niem spe­cja­li­stycz­nych przy­rzą­dów dla badań nauko­wych, Inter­ne­tem przed­mio­tów (w tym Indu­stry 4.0), a także apli­ka­cją mikro­sys­te­mów w bio­lo­gii i medy­cy­nie.