Produkcja doświadczalna

⇚ powrót

Wytwarzanie masek fotolitograficznych

Oferujemy wykonywanie masek na potrzeby badawcze i do produkcji małoseryjnej na podstawie dokumentacji przygotowanej przez zamawiającego (layout, liczba warstw, kolory, wymiary krytyczne, centrowanie). Topografia powinna być przekazywana przez zamawiającego postaci pliku w formacie dxf, gdsii, cif.

Urządzenie Heidelberg DWL-200 służy do przenoszenia wzorów na różne podłoża:

• krzemowe,
  
• szklane,
  
• warstwy,
  
• inne materiały typu światłoczułe emulsje fotolitograficzne (czułe na długość fali 365 nm).

Urządzenie może być zastosowane do wytwarzania masek dla technologii półprzewodników oraz do wielu innych aplikacji, gdzie przenoszony wzór wymaga wysokiej precyzji oraz wysokiej rozdzielczości.

Zapewniamy doskonałą jakość oraz wysoką rozdzielczość nanoszonego wzoru. Obecnie mamy możliwość wykonywania masek chromowych o wymiarach maksymalnych 8" x 8" na standardowych płytach szklanych (typy szkieł) pokrytych metalicznym chromem (standardowo wykonujemy maski 4" x 4" i 5" x 5" w rozdzielczości 1,5 µm).

• tolerancja centrowania (0,3 µm dla obu osi);
• rozrzut wymiaru krytycznego dla masek chromowych przy naświetlaniu standardowej emulsji o grubości 0,5 µm (+/0,2 µm);
• rozrzut wymiaru krytycznego dla innych podłoży przy naświetlaniu grubszych warstw emulsji (+/-0,6 µm).

TERMIN REALIZACJI: Standardowo 15 dni roboczych

WYNIK: Maski wykonane według uzgodnionego projektu są po przetestowaniu poprawności wyko- nania przekazywane do odbiorcy.

KONTAKT: Andrzej Sierakowski asierak@ite.waw.pl